Современные решения для производства электроники


Osiris

Компания Osiris International – это производитель оборудования для проведения фотолитографических процессов при производстве полупроводниковых bзделий и МЭМС устройств.

Все системы компании Osiris отличаются простотой и удобством программирования и обслуживания.Оборудование подходит как для стандартных кремниевых пластин, так и для полупроводниковых подложек из других материалов (SiC, GaAs, стекло).

Линейка оборудования Osiris включает в себя как лабораторные установки, так и автоматизированные кластерные системы.

Модельный ряд Osiris

Osiris AFIXX 20m - установка временного сращивания пластин
Установка предназначена для временного сращивания полупроводниковых пластин диаметро до 200 мм и подложек с размерами до 150 х 150 мм.
Osiris DEFIXX m - установка разделения пластин
настольная установка разделения полупроводниковых пластин и подложек диаметром до 300 мм после временного сращивания.
Другие производители