Современные решения для производства электроники

Вакуумное напыление (PVD)

Kenosistec KE 500/1000 - установки вакуумного термического и электронно-лучевого напыления тонких пленок
Установки предназначены для вакуумного напыления тонких пленок различных материалов (металлов, нитридов, оксидов и др.) методом термического испарения или электронно-лучевым способом.
Kenosistec KS 40/80/120V - установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок c вертикальным расположением магнетронных источников
Установки предназначены для магнетронного напыления тонких пленок различных материалов (металлов, нитридов, оксидов и др.).
Kenosistec KS 300С/500C/1000С - установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок c конфокальным расположением магнетронных источников
Установки предназначены для конфокального магнетронного напыления тонких пленок различных материалов (металлов, нитридов, оксидов и др.).
TFE BH3/4F - установки вакуумного магнетронного напыления
Установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок с горизонтальным расположением подложек и магнетронных источников. Установки этой серии позволяют распылять металлы, резистивные сплавы и диэлектрики из трёх либо четырёх источников.
TFE BV3/4F - установки вакуумного магнетронного напыления
Установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок с вертикальным расположением подложек и магнетронных источников, обеспечивающие высокую однородность плёнок в процессе осаждения.
TFE Polygon - установки вакуумного напыления
Установки вакуумного напыления тонких пленок кластерного типа.