Kenosistec KS 40/80/120V - установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок c вертикальным расположением магнетронных источников

Установки KS 40V/80V/120V позволяют проводить одно- и многослойное магнетронное осаждение тонких пленок. Оснащены магнетронными источниками (DC/RF) c вертикальным расположением мишеней, системой вакуумных насосов с измерительными датчиками, системой подачи рабочих газов с регулировкой расхода, вращающимся подложкодержателем, резистивными элементами для предварительного нагрева подложек и нагрева подложек в процессе осаждения. Ключевой особенностью моделей KS 40V/80V/120V является высочайшая однородность напыляемых слоев по толщине благодаря вертикальному расположению магнетронов и подложек, а также возможность обработки большого количества образцов за один цикл. В зависимости от требований заказчика может проводиться очистка образцов и травление.
Технические характеристики:
Модель |
KS 40V |
KS 80V |
KS 120V |
Размеры вакуумной камеры |
Ø 500 мм, 400 мм (В) |
Ø 1000 мм, 800 мм (В) |
Ø 1000 мм, 1200 мм (В) |
Количество магнетронных источников |
До 6 шт. |
||
Длина магнетронных источников (макс.) |
305 мм |
559 мм |
910 мм |
Мощность DC источника питания (макс.) |
5 кВт |
10 кВт |
10 кВт |
Мощность RF источника питания (макс.) |
1,5 кВт |
5 кВт |
5 кВт |
Нагрев подложек |
350 °С макс.; опционально – 800 °С |
||
Охлаждение подложек |
Вода или жидкий азот |
||
Размер подложек (макс.) |
254 мм |
508 мм |
864 мм |
Однородность толщины напыляемых пленок |
± 3% (для подложек диаметром 102 мм) |
||
Типы вакуумных насосов |
Криогенный, турбомолекулярный |
||
Предельный вакуум в камере |
2х10−7 мбар (опционально 10−9 мбар) |