Современные решения для производства электроники

Фотолитография

ABM/6/350/NUV/DCCD/M - ручная система одностороннего совмещения и экспонирования
Ручная система одностороннего совмещения и экспонирования.
ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M - ручная система двустороннего совмещения
Ручная система двустороннего совмещения
ABM/8/500/NUV/DCCD/M - ручная система совмещения по лицевой стороне большой площади (8”)
Ручная система совмещения по лицевой стороне большой площади (8”)
ABM/6/350/NUV/MR - ристема репликации маски
Система репликации маски включает в себя источник излучения (ближний и дальний УФ), источник питания и ручной либо автоматический контроллер экспозиции. Этот продукт в основном сосредоточен на процессе единичной литографии с высокой производительностью при низкой стоимости решения.
ABM/6/350/NUV/DCCD/SA - полуавтоматическая система одностороннего совмещения
Полуавтоматическая система одностороннего совмещения. Особенно подходит для производства оптико-электронных устройств и светодиодов, управляется с помощью PLC-контроллера и сенсорного экрана. Процесс запускается одним нажатием кнопки, что эффективно повышает производительность и стабильность.
ABM/6/350/NUV/DCCD/FA - полностью автоматическая система совмещения и экспонирования
Полностью автоматическая система совмещения и экспонирования применяется для совмещения пластины/подложки и фотошаблона по лицевой стороне с последующим экспонированием фоторезиста.
Apogee Bake Plate - установка сушки фоторезиста
Установка Apogee Bake Plate предназначена для сушки фоторезиста на пластинах диаметром до 200 мм.
Apogee Spin Coater - установка нанесения фоторезиста методом центрифугирования
Установка Apogee Spin Coater предназначена для нанесения фоторезистивных покрытий методом центрифугирования на пластины диаметром до 200 мм.
Apogee Spin Developer/Cleaner - установка проявления фоторезиста
Установка Apogee Spin Developer/Cleaner предназначена для проявления фоторезиста на пластинах диаметром до 200 мм.