Магнетронное напыление / Евроинтех - решения для производства электроники

Kenosistec KS 40/80/120V - установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок c вертикальным расположением магнетронных источников

Установки предназначены для магнетронного напыления тонких пленок различных материалов (металлов, нитридов, оксидов и др.).

Kenosistec KS 300С/500C/1000С - установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок c конфокальным расположением магнетронных источников

Установки предназначены для конфокального магнетронного напыления тонких пленок различных материалов (металлов, нитридов, оксидов и др.).

TFE BH3/4F - установки вакуумного магнетронного напыления

Установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок с горизонтальным расположением подложек и магнетронных источников. Установки этой серии позволяют распылять металлы, резистивные сплавы и диэлектрики из трёх либо четырёх источников.

TFE BV3/4F - установки вакуумного магнетронного напыления

Установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок с вертикальным расположением подложек и магнетронных источников, обеспечивающие высокую однородность плёнок в процессе осаждения.

TFE Polygon - установки вакуумного напыления

Установки вакуумного напыления тонких пленок кластерного типа.

Задать вопрос