Современные решения для производства электроники

ABM/6/350/NUV/DCCD/FA - полностью автоматическая система совмещения и экспонирования

ABM/6/350/NUV/DCCD/FA

Установка ABM/6/350/NUV/DCCD/FA применяется для совмещения пластины/подложки и фотошаблона по лицевой стороне с последующим экспонированием фоторезиста.

Загрузка пластин/подложек на держатель, полный цикл совмещения по реперным меткам и экспонирования фоторезиста в течение заданного времени, а также выгрузка пластин/подложек на кассету осуществляются в автоматическом режиме.

Основные технические характеристики:

— Точность переднего совмещения: +/- 1 микрон
— Система совмещения: ПЗС-камера с расщеплённым полем
— Диапазон расщеплённого поля: от 10 до 150 мм
— Длина волны источника излучения: ближний УФ- 365 нм, 400 нм; дальний УФ- 220 нм, 254 нм
— Размер области однородного излучения: 6”
— Однородность пучка:
    < ±1% в пределах области 2” (круг)
    < ±2% в пределах области 4” (круг)
    < ±3% в пределах области 6” (круг)
— Размеры подложек: от 2” до 6” (круглые)
— Размеры масок: от 3” до 7” (квадратные)
— Рабочий режим: контакт и экспонирование с зазором
— Максимальный зазор между маской и подложкой: 300 микрон
— Ключ совмещения: стандартное изображение в виде креста
— Электромеханическое перемещение рабочего столика
— Автоматическая планаризация по оси Z, компенсация клина и выравнивание.
— 17” ЖК-монитор с высоким разрешением
— 15” сенсорный экран HMI.
— Система управления: ПК/программируемый логический контроллер

Установки совмещения и экспонирования

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Фотолитография