Современные решения для производства электроники

10 января 2018

Компания PVA Tepla начала выпуск новой модели установок плазменной очистки серии IoN

В отличии от предыдущих моделей данной серии, установка IoN 10V предназначена в основном для полупроводниковой технологии — проведения таких процессов как удаление фоторезиста, очистка пластин, травление пассивирующих слоёв и т.д. Модель IoN 10V ориентирована на использование в исследовательских разработках и небольших серийных производствах, в таких областях, как изготовление мощных транзисторов, аналоговых приборов, МЭМС/МОЭМС, фотоэлектронных, биомедицинских, микрофлюидных и прочих устройств. Модель отличается небольшими габаритами, удобством в управлении и техническом обслуживании. Усовершенствованное программное обеспечение позволяет с высокой точностью контролировать параметры технологического процесса.

keyboard_arrow_leftВернуться к списку
Новости