10 января 2018
Компания PVA Tepla начала выпуск новой модели установок плазменной очистки серии IoN
В
отличии от предыдущих моделей данной серии,
установка IoN 10V
предназначена в основном для полупроводниковой технологии проведения таких
процессов как удаление фоторезиста, очистка пластин, травление пассивирующих
слоёв и т.д. Модель IoN 10V ориентирована на использование в исследовательских
разработках и небольших серийных производствах, в таких областях, как
изготовление мощных транзисторов, аналоговых приборов, МЭМС/МОЭМС,
фотоэлектронных, биомедицинских, микрофлюидных и прочих устройств. Модель
отличается небольшими габаритами, удобством в управлении и техническом
обслуживании. Усовершенствованное программное обеспечение позволяет с высокой
точностью контролировать параметры технологического процесса.