ORBIS ALPHA XERIC - установка травления кремния и оксида кремния
Установка Orbis Alpha XERIC предназначена для изотропного травления кремния и оксида кремния. Типичной областью применения является производство МЭМС, микрофлюидных устройств, акустических резонаторов и т.д. Установка состоит из базовой платформы Orbis Alpha и модуля XERIC.
Orbis Alpha является лабораторной платформой, предназначенной для использования в исследовательских разработках. Платформа обеспечивает доступ к технологии производства МЭМС при минимальных затратах. Загрузка изделий происходит вручную.
Модуль XERIC предназначен для травления Si и SiO2 в непрерывном потоке, с высокоточным дозированием, контролем температуры и давления рабочего газа.
Основные особенности и преимущества:
- Равномерное травление во всех направлениях (изотропный процесс)
- Превосходная однородность по пластине и повторяемость процесса
- Высокая скорость и селективность травления
- Точный контроль и широкий диапазон параметров
- Экономичное решение для исследовательских разработок
Технические характеристики:
Размер пластин и подложек: |
до 200 мм |
Загрузка |
1 пластина/цикл |
Рабочие газы |
XeF2 (травление Si), HF (травление SiO2) |
Система подачи |
Газовый душ |
Регулировка давления |
Автоматическая |
Управление |
ПК под управлением ОС Windows, сенсорный экран |