POLOS NanoWriter - компактная установка безмасковой литографии
POLOS NanoWriter
– это высокоточная компактная установка безмасковой
литографии для работы с фотошаблонами 76х76 и 102х102 мм, а
также для работы с пластинами диаметром до 100 мм и платами 46х60 мм.
Достоинства модели:
- Высокое качество, низкая стоимость
- Разрешение до 0,8 мкм
- Доступен источник длиной волны 375 нм
- Компактный оптический модуль
- Удобный графический интерфейс
Технические характеристики модели POLOS NanoWriter:
|
Лазерный источник |
405 нм, 375 нм опционально |
|
Срок службы |
Более 10000 часов |
|
Рабочие режимы |
0,8 мкм, опционально 1,5 мкм и 2,5 мкм |
|
Рабочее расстояние |
0,9 мм |
|
Интенсивность |
Макс. 3 мВт на точку |
|
Контроль градаций серого |
4095 уровней |
|
Автофокус |
Автоматический контроль высоты в диапазоне - |
|
Фокусное расстояние |
Регулируемое с помощью ПО |
|
Камера совмещения |
Монохромная 5,2 МП, 1 мкм/пиксель, конечная точность совмещения – менее 0,5 мкм |
|
Амплитуда сканирования |
Макс. 115 мм |
|
Повторяемость |
Менее 50 нм |
|
Скорость сканирования (зависит от разрешения) |
Макс. 200 мм/c |
|
Толщина обрабатываемых подложек |
0 – 10 мм в ручном режиме, до 12 мм с моторизованным ходом по оси Z |
|
Допускаемый разброс по толщине подложек |
Макс. +/- 0,2 мм |
|
Размеры подложек |
Мин. 5х5 мм, макс. 125х125 мм |
|
Область засветки |
Макс. 110х110 мм (зависит от скорости) |
|
Критический размер |
800 нм (зависит от параметров процесса и толщины слоя) |
|
Однородность толщины линий |
Менее 75 нм |
|
Габаритные размеры, вес |
580х708х600 мм (ШхВхГ), 260 кг |
|
Питание |
230 В, макс. 1 кВт |
|
Требуемые подключения |
Сжатый воздух |
