10 марта 2022
Компания Евроинтех расширяет линейку оборудования безмасковой литографии
Для создания на подложках микрорельефа со структурами микронных размеров удобно использовать технологию прямой литографии без фотошаблона. В этом случае рисунок в слое фоторезиста формируется с помощью точного лазерного воздействия либо с помощью проекционной технологии. А размеры формируемых структур зависят от размеров лазерного луча и точности его позиционирования.
Компания Евроинтех предлагает своим Заказчикам различное оборудование для безмасковой литографии, начиная от компактных установок для прототипирования и лабораторного применения и заканчивая полностью автоматизированным системами высокой точности.
|
Название оборудования |
Минимальные размеры структур |
Размеры подложек |
|
0,3 мкм, опционально 0,6 мкм и 0,9 мкм |
Мин. 5х5 мм, макс. 125х125 мм |
|
|
0,8 мкм, опционально 1,5 мкм и 2,5 мкм |
Мин. 5х5 мм, макс. 125х125 мм |
|
|
1 мкм |
От долей мм до 100х100х10 мм |
|
|
От 2 мкм до 23 мкм |
До 100х100мм |
