05 мая 2017

Компания PVA Tepla сообщила о выпуске новых моделей в линейке оборудования для плазменной обработки поверхностей. Новые установки IoN 3B и IoN 7B позволяют проводить очистку поверхностей в различных газовых средах, имеют регулируемый диапазон частот генератора плазмы (20 – 100 кГц), а также возможность использования RF-генератора с частотой 13,56 кГц или 13,56 МГц. Улучшенные модели IoN 3B, 7B применяются для:

— Очистки полупроводниковых, стеклянных, керамических подложек и печатных плат от поверхностных загрязнений;

— Плазменной активации поверхности для улучшения адгезии перед процессами монтажа кристаллов и компонентов, микросварки;

— Мягкого плазменного травления материалов в производстве полупроводниковых устройств.