Современные решения для производства электроники

30 сентября 2019

Новая технология атомно-слоевого осаждения с плазмой PEALD Picosun показала непревзойденные результаты

Группа компаний Picosun, ведущий поставщик оборудования для нанесения тонкопленочных покрытий, опубликовала блестящие результаты своей новой технологии атомно-слоевого осаждения с плазмой (PEALD). Технология плазменно-стимулированного АСО позволяет проводить осаждение при низких температурах и более широкого диапазона материалов. Однако, АСО с плазмой повреждает поверхность образцов вследствие ионной бомбардировки. Picosun разработала метод использования удаленной плазмы, при котором плазменный источник расположен довольно далеко от образцов. Благодаря этому поверхность образцов достигают только радикалы, а не ионы с высокой энергией.

Технология АСО с удаленным источником микроволной плазмы, разработанная Picosun, позволяет проводить осаждение с минимальным загрязнением и требует меньшего времени цикла по сравнению с предыдущим методом. Ниже в таблице представлены результаты атомно-слоевого осаждения по новой технологии, демонстрирующие отличное качество и однородность полученных пленок.

Диаметр пластин,

Температура процесса,

Скорость роста

Неоднородность пленок SiO2

Ток утечки

200 мм,

400 °С,

0,86 Å/цикл

1,7 %

(при толщине пленки 10 нм)

2.1 x 10^−8 Å/см^2

Новая технология атомно-слоевого осаждения найдет применение в производстве медицинских приборов, МЭМС изделий, в тех процессах, где используются чувствительные к высоким температурам подложки. Эта технология выводит оборудование плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения на качественно новый уровень.

keyboard_arrow_leftВернуться к списку
Новости