30 сентября 2019
Новая технология атомно-слоевого осаждения с плазмой PEALD Picosun показала непревзойденные результаты
Группа компаний
Picosun, ведущий поставщик оборудования для нанесения
тонкопленочных покрытий, опубликовала блестящие результаты своей новой
технологии
Технология АСО с удаленным источником микроволной плазмы, разработанная
Picosun, позволяет проводить осаждение с минимальным загрязнением и требует
меньшего времени цикла по сравнению с предыдущим методом. Ниже в таблице
представлены результаты
Диаметр пластин, Температура процесса, Скорость роста |
Неоднородность пленок SiO2 |
Ток утечки |
200 мм, 400 °С, 0,86 Å/цикл |
1,7 % (при толщине пленки 10 нм) |
2.1 x 10^−8 Å/см^2 |
Новая технология